Blog
Devmatech wprowadza do sprzedaży nową serię powlekaczy obrotowych serii SPINx. Główne cechy: Zdejmowana obudowa – powlekacz może być używany jako nablatowy lub można go zainstalować w blacie komory rękawicowej (nie ma już oddzielnych wersji) Seria Spin X jest wyposażona w pułapkę cieczy, chroniącą krytyczne komponenty powlekacza takie jak silnik, czujnik próżni, zawór próżniowy. Przechwycone płyny […]
W latach 70tych ubiegłego wieku inżynierowie RCA (Radio Corporation of America) odkryli, że czyszczenie soniczne w zakresie częstotliwości 0.8 – 0.9 MHz jest efektywne w usuwaniu zanieczyszczeń z powierzchni podłoży bez wprowadzania uszkodzeń na ich powierzchni, w przeciwieństwie do fal ultradźwiękowych. Główne czynniki skuteczności fal Megasonic: Obniżenie warstwy granicznej: Czyszczenie megasoniczne wykorzystuje efekt piezoelektryczny, w […]
W naszej ofercie znajdują się wszechstronne reflektometry optyczne pozwalające zależnie od wybranego modelu określić grubość warstw w szerokim zakresie pomiarowym od 1nm aż do 3 mm. Ponadto urządzenia pozwalają wyznaczyć stałe optyczne, reflektancję, transmitancję oraz barwę próbek zgodnie ze standardem CIE 1931 oraz CIE 1964. Poniżej przedstawiamy wybrane modele dedykowane w szczególności zastosowaniom badawczym, które umożliwiają przeprowadzenie lokalnej […]
Grupa Picosun dostarczy najnowocześniejsze technologie Atomic Layer Deposition (ALD) do ams OSRAM do masowej produkcji optycznych urządzeń półprzewodnikowych. ams OSRAM zainwestował w pełni zautomatyzowany klaster produkcyjny ALD PICOSUN® Morpher, do nakładania wiele materiałów na serie podłoży nawet podczas tego samego cyklu produkcyjnego. Elastyczność i możliwość prowadzenia różnorodnych procesów jest kluczową zaletą systemu PICOSUN® Morpher, która […]
Serdecznie zapraszamy na bezpłatny webinar: „Longer-lasting implants with hermetic ALD coatings”, na którym przedstawiciele Picosun zaprezentują ostatnie wyniki oraz rozwiązania oparte na technologii osadzania warstw atomowych ALD dla producentów implantów medycznych. Data: 27.04.2021 godz. 16.00 CET Link do rejestracji: Kliknij tutaj
Nakładanie epitaksjalnego azotku galu (GaN) metodą PE-ALD (Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition) w niskiej temperaturze w reaktorze R-200 Advanced . Naukowcom z Uniwersytetu w Linköping udało się nałożyć wysokiej jakości GaN w temperaturze 250˚C. To odkrycie może się przyczynić do powstania nowocześniejszych i mniejszych tranzystorów HEMT oraz umożliwi nakładanie GaN na materiały z mniejszą odpornością temperaturową. Źródło: […]
W imieniu firmy STOE zapraszamy na webinar z udziałem Mauro Gemmi, Center for Nanotechnology Innovation @ NEST, Istituto Italiano di Tecnologia, Piza, Włochy pod tytułem: POWDER X-RAY DIFFRACTION AND 3D-ED PARTNERS IN STRUCTURE SOLUTION AND REFINEMENT. Webinar odbędzie się 3 grudnia 2020 o 15:00 CET https://register.gotowebinar.com/register/2786460843185143055 #nanotechnology #xrd #electrondiffraction #pxrd
Nałożenie cienkich warstw pasywacyjnych i barierowych znacząco poprawiło niezawodność i wydłużyło żywotność diod UVC. Dzięki nałożonej w reaktorze ALD warstwie Al2O3 o grubości 50 nm przy standardowej obudowie bez hermetycznego uszczelnienia uzyskano 80% początkowej wydajności nawet po 500h testowania w komorze środowiskowej przy wilgotności 80% i temperaturze 85˚C. Warstwa pasywacyjna ALD mogłaby potencjalnie zastąpić kosztowne […]
Ciekawy przykład krystalizacji in situ metodą topienia strefowego wykonany na dyfraktometrze IPDS II STOE & Cie GmbH w grupie Silicon Chemistry and Materials Science TU Bergakademie Freiberg: „Syntheses and Molecular Structures of Liquid Pyrophoric Hydridosilanes” https://lnkd.in/dERJFnq
Osadzanie warstw atomowych (ALD) na proszki Kolejne doniesienie opisujące zastosowanie technologii osadzania warstw atomowych w powlekaniu materiałów proszkowych. Tym razem na komercyjnie dostępne cząstki TiO2 nałożono cienką warstwę Fe2O3 uzyskując wzmocniony efekt fotokatalityczny. Warstwę nałożono w reaktorze ALD R-150, poprzedniku obecnie oferowanego reaktora ALD R200, wyposażonego w montowany bardzo prosty sposób w komorze reakcyjnej specjalny […]
Nowa jakość procesów PE-ALD (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition) Rozwiązanie PE-ALD nowej generacji firmy Picosun jest oparte na zdalnej plazmie mikrofalowej o dużej mocy (MWP). Lekki, kompaktowy, generator plazmy można zintegrować z istniejącymi reaktorami PICOSUN® R&D ALD. Nowe rozwiązanie do wspomaganych plazmą procesów osadzania warstw atomowych umożliwia nakładanie warstw praktycznie bez generowania niepożądanych cząstek, przy […]
Grupa Picosun, wiodący dostawca urządzeń i rozwiązań do osadzania warstw atomowych AGILE ALD® (Atomic Layer Deposition), odnotowuje rekordową sprzedaż w drugim kwartale 2020 r. Szczególnie dobrze przyjęta przez klientów technologia ALD w produkcji podłoży o średnicy 300 mm. Całkowita liczba zamówień w drugim kwartale 2020 wyniosła 11,6 mln €, a całkowita sprzedaż netto 9,8 mln […]
Technologia osadzania warstw atomowych ALD znajduje coraz szersze zastosowanie w powlekaniu implantów medycznych , w których metalowe elementy i wrażliwa mikroelektronika muszą być skutecznie i długoterminowo chronione przed korozją powodowaną przez płyny ustrojowe człowieka. Doniesienie grupy Picosun opisuje wytworzenie organiczno-nieorganicznej dwuwarstwowej ochrony barierowej przeznaczonej dla neurorpotez i elektroniki biomedycznej. Grupa również potwierdza doskonałe właściwości hermetyczne […]
Oferujemy rewolucyjną metodę nakładania cienkich, nanometrycznych i 100% konforemnych warstw ochronnych dla producentów drukowanych płytek elektronicznych oraz producentów elektroniki, opracowaną przez wiodącego producenta technologii ALD firmę Picosun. Główne cechy technologii: Hermetyczne, gęste warstwy nakładane metodą osadzania warstw atomowych ALD (Atomic Layer Deposition), skutecznie zabezpieczające przed utlenianiem, wilgocią, zalaniem i powstawaniem wąsów cynowych 100% konforemność – dokładne […]
Wyzwaniem dla produkcji urządzeń opartych na grafenie jest jego powierzchniowa modyfikacja, polegająca na nałożeniu wysokiej jakości ultra-cienkich warstw materiałów o określonych funkcjach. Technologia osadzania warstw atomowych (ALD) odpowiada tym potrzebom umożliwiając nakładanie cienkich, konforemnych warstw z kontrolą przyrostu do grubości pojedynczych atomów. Poniższe publikacje przedstawiają przykłady modyfikacji grafenu w reaktorach Picosun 1. Zhou, P. et […]
Podczas powlekania podłoży prostokątnych lub kwadratowych obserwuje się trzy główne niepożądane zjawiska: efekt „edge beads”, efekt geometryczny oraz efekt Bernoulli. Występowanie powyższych artefaktów powodować może znaczne pogorszyć jakość otrzymywanych warstw. Poprawa jednorodności może być uzyskana poprzez zmniejszenie prędkości wirowania (powstaje słabsze podciśnienie wytworzone przez efekty Bernoulliego, tak więc otrzymana powłoka będzie bardziej jednolita), ale jednocześnie pogrubieniu […]
Picosun Oy, wiodący dostawca urządzeń oraz technologii do nanoszenia cienkich warstw metodą ALD nawiązał współpracę z Osram Opto Semiconductors oraz partnerami naukowymi celem wytworzenia nowej generacji źródeł światła typu LED. W ramach projektu zaprojektowane zostaną LEDy charakteryzujące się bardzo wysoką jasnością świecenia oraz długą żywotnością. Na chwilę obecną stanowi to olbrzymie wyzwanie dla całej branży. Obecnie systemy Picosun […]
Czym jest proces sol-gel? Proces sol-gel wykorzystywany jest w wytwarzaniu materiałów stałych. Nakładanie warstw z użyciem metody sol-gel umożliwia wytworzenie jedno lub wieloskładnikowych powłok tlenkowych na podłożach szklanych lub metalicznych. Istnieją dwie zasadnicze metody nakładania cienkich warstw: metoda powlekania obrotowego (spin coating) dla jednostronnego powlekania sol-gel lub powlekania przez zanurzanie (dip-coating) dla obustronnego powlekania. Obie […]