P-1000

Przemysłowy reaktor ALD

Przemysłowy reaktor ALD do dużych podłoży 3D

    Ta strona jest chroniona przez reCAPTCHA oraz Google Polityka Prywatności | Warunki użytkowania.

    System PICOSUN® P-1000 ALD jest specjalnie  przeznaczony do okresowego seryjnego powlekania różnych podłoży 3D, takich jak części maszyn mechanicznych, szkła, blachy, monet, części zegarków i biżuteria, soczewek urządzeń medycznych oraz implantów.

    GŁÓWNE CECHY:

    • Niezależne wloty prekursorów do komory
    • Uniwersalna komora do wszystkich rodzajów podłoży
    • Jednorodna temperatura w całej objętości komory reakcyjnej
    • Prosta obsługa za pomocą komputera z ekranem dotykowym

    TYPOWE PODŁOŻA:

    • Wszystkie rodzaje podłoży 3D – części mechaniczne, monety, elementy zegarków i biżuterii, soczewki, implanty chirurgiczne (rozwiązania PicoMEDICAL™)

    TEMPERATURA PROCESU

    50 – 400°C

    TYPOWE PROCESY

    • Tlenki: Al2O3, TiO2, ZnO

    ZAŁADUNEK PODŁOŻY

    • Ręczny załadunek z wykorzystaniem np. wózka widłowego

    PREKURSORY

    • 10 linii prekursorowych (ciekłe, gazowe, stałe, ozon)
    • 6 niezależnych wlotów do komory