P-1000

Průmyslový ALD reaktor

Průmyslový ALD reaktor pro velké podklady 3D

    Tato stránka je chráněna službou reCAPTCHA Politika ochrany soukromí | Platí podmínky Google.

    Systém PICOSUN® P-1000 ALD je speciálně navržen pro povlakování různých 3D podkladů, mechanických částí strojů, skla, plechu, hodinek, šperků, čoček a jiných.

    HLAVNÍ VLASTNOSTI:

    • Unikátní řešení zajišťující nejvyšší čistotu procesu a uniformitu vrstev
    • Nezávislé přívody prekurzorů do komory
    • Univerzální komora pro všechny typy substrátů
    • Rovnoměrná teplota v celém objemu reakční komory

    TYPICKÉ PODKLADY:

    • Různé podklady 3D

    TEPLOTA PROCESU

    50 – 400 °C

    TYPICKÉ PROCESY

    • Výrobní průmyslové procesy
    • Oxidy: Al2O3, TiO2, ZnO

    VKLÁDANÍ SUBSTRÁTŮ

    • Vkládaní substrátů pomocí např. zdvižného vozíku

    PREKURZORY

    • Do 10 zdrojů prekurzorů
    • 6 nezávislých přívodů do komory