spin coater powlekacz obrotowy

POLOS 200 Advanced

Spin coater

Powlekacz obrotowy (spin coater) dla podłoży o średnicy do 260 mm

    Ta strona jest chroniona przez reCAPTCHA oraz Google Polityka Prywatności | Warunki użytkowania.

    Spin coater model SPIN200i jest przeznaczony do procesów czyszczenia, suszenia, powlekania, wywoływania i/lub trawienia podłoży o średnicy do 260 mm.
    Konstrukcja spin coatera zapewnia z jednej strony łatwość utrzymania czystości procesu, a z drugiej gwarantuje bardzo długą żywotność urządzenia pomimo kontaktu z agresywną chemią dzięki wyeliminowaniu jakichkolwiek metalowych elementów podatnych na korozję.
    Oferowany spin coater wykonany jest w całości z tworzywa sztucznego – z polipropylenu lub teflonu.

    • Nablatowy model do ręcznego lub opcjonalnie zautomatyzowanego dozowania odczynników
    • System wykonany w całości z naturalnego polipropylenu (NPP) (opcjonalnie z PTFE)
    • Przezroczysta pokrywa z uchwytem strzykawki do centralnego dozowania
    • Elektromagnetyczna blokada pokrywy
    • Złącze odłączanego kontrolera do łatwej integracji z glovebox
    • Dyfuzor N2 do płukania azotem w trakcie prowadzonego procesu
    • Łatwe programowanie receptur krok po kroku za pomocą dużego, kolorowego ekranu dotykowego
    • 3 programowalne styki bezpotencjałowe: np. do zautomatyzowanej kontroli jednostki dozującej, dyfuzora azotu itd.
    • Strukturyzowana, chroniona hasłem pamięć receptur do łatwego i bezpiecznego zarządzania
    • Cyfrowe sterowanie silnika oparte na sprzężeniu zwrotnym sygnału przyrostu prędkości
    • Nieograniczona pamięć programów dla receptur obejmujących wiele kroków

     

    Możliwość ustawienia następujących parametrów procesu

    Ilość programów użytkownika Nieograniczona
    Ilość kroków na program Nieograniczona
    Prędkość 0–12 000 obr./min
    Czas 0,1-99 999 s/krok
    Prędkość 0–12 000 obr./min
    Kierunek obrotów (CW, CCW, puddling)
    Przyspieszanie/spowalnianie 1-30 000 obr./min / s**
    Próżnia wł. / wył.
    ZESTAW ZAWIERA
    standardowy uchwyt próżniowy A-V36-S45-PP, Ø45 mm do wafli o średnicy do 8“
    D-V10-S50-PP, adapter do małych fragmentów, do elementów i fragmentów o średnicy ½“ do 2’’ (opcjonalnie dostępne uchwyty na inne podłoża)
    Przyłącze spustowe 1” męskie NPT (wąż spustowy dostępny opcjonalnie)

    Uchwyty dla różnych typów podłoży:

    • Fragmenty podłoży
    • Niski kontakt
    • Podłoża kwadratowe Maski, ogniwa słoneczne, itp. – Chipy, płytki, fragmenty itd.
    • Podłoża zwykłe – Szkiełka laboratoryjne etc,
    • Podłoża okrągłe – Uchwyty próżniowe dla podłoży od 2“ do 300 mm
    • Podłoża okrągłe – Uchwyty próżniowe z pinami centrującymi
    • Podłoża okrągłe – Uchwyty mechaniczne z pinami centrującymi


    Zestaw wkładek ochronnych do
    misy i wieka powlekacza

    wkładki do powlekacza


    Uchwyt na strzykawki z centralnym układem dozującym, do strzykawek pojedynczych lub potrójnych ze zintegrowanym dyfuzorem N2

    uchwyt dozujący


    Zestaw startowy strzykawek składający się z pięciu cylindrów do
    dozowania chemikaliów o objętości 30 cm³, igieł i pistonów

    zestaw strzykawkowy


    System dozowania PERFORMUS X
    Do instalacji w uchwycie strzykawkowym i sterowany przez trzy złącza bezstykowe

    dozowanie powlekacza


    Narzędzie do centrowania podłoży.
    Jedno narzędzie przeznaczone do centrowania podłoży o rozmiarach
    od 2″ do 6″ oraz kwadratowych podłoży do 4×4″

    narzędzie centrujące


    Karbowany wąż spustowy ze złączem

    wąż karbowany


    Pompa próżniowa

    pompa próżniowa