POLOS NanoWriter Advanced
Bezmaskowa litografia laserowa UV
POLOS NanoWriter Advanced to wszechstronny, precyzyjny system litografii laserowej zaprojektowany do prostego tworzenia mikrostruktur w warstwach światłoczułych oraz do wytwarzania masek. Praca urządzenia w trybie rastrowym zapewnia prawidłowe i stałe naświetlanie całej powierzchni podłoża.
Obsługa do 4095 poziomów w skali szarości lub w trybie czystym binarnym umożliwia tworzenie struktur optycznych 3D, struktur powierzchniowych oraz projektów masek, co czyni POLOS NanoWriter Advanced idealnym narzędziem do prac badawczo-rozwojowych.
Optyka i autofocus:
Elementy optyczne i cała ścieżka optyczna są umieszczone w łatwo wymiennym module.
Utrzymywanie możliwie jak najkrótszej ścieżki optycznej znacznie zwiększa stabilność pozycjonowania wiązki.
Sterowany laserem 650 nm autofocus automatycznie koryguje błędy wynikające z nierównych powierzchni lub podłoży będących pod skosem.
CECHY
- Najwyższa rozdzielczość na rynku z zastosowaniem długo-żywotnego lasera diodowego 405 nm
- Najwyższa osiągnięta rozdzielczość: 300 nm
- Do 4095 poziomów w skali szarości lub tryb czysto binarny
- Możliwość montażu źródła 375 nm dla wymagających zastosowań
- Rastrowy tryb pracy
- Wybór trybu pracy za pomocą oprogramowania
- Wielkość podłoży od 5 mm x 5 mm do 4” x 4”
ZASTOSOWANIA
- Półprzewodniki
- Fotonika
- Wytwarzanie masek
- Litografia 3D
- Optyka dyfrakcyjna
- Mikrofluidyka
- Zabezpieczenia / hologramy
- Inne