POLOS Beam Lite
Bezmaskowa litografia laserowa
Kompaktowy system do litografii laserowej LED DMD dla podłoży do 4`` z możliwością tworzenia wzorów o szerokości od 1,5 µm
POLOS Beam to seria wszechstronnych, precyzyjnych i przystępnych cenowo systemów litografii laserowej DMD zaprojektowanych do prostego tworzenia mikrostruktur w warstwach światłoczułych oraz do wytwarzania masek.
Łatwo wymienne obiektywy zapewniają zróżnicowane rozdzielczości i pola zapisu
CECHY
- Źródło LED 405 nm
- Możliwość montażu dodatkowego źródła 365 nm dla wymagających zastosowań
- Wymienne obiektywy: 5x i 10x
- Ultraszybki autofocus
- Najwyższa osiągnięta rozdzielczość: 1,5 µm
- Do 4095 poziomów w skali szarości lub tryb czysto binarny
- Rastrowy lub rastrowy tryb pracy
- Wybór trybu pracy za pomocą oprogramowania
- Wielkość podłoży do 4” x 4”
ZASTOSOWANIA
- Półprzewodniki
- Fotonika
- Wytwarzanie masek
- Litografia 3D
- Optyka dyfrakcyjna
- Mikrofluidyka
- Zabezpieczenia / hologramy
- Inne