POLOS Beam
Bezmaskowa litografia laserowa
Kompaktowy system do litografii laserowej dla podłoży do 4`` lub 6`` z możliwością tworzenia wzorów o szerokości od 800 nm
POLOS Beam to seria wszechstronnych, precyzyjnych i przystępnych cenowo systemów litografii laserowej DMD zaprojektowanych do prostego tworzenia mikrostruktur w warstwach światłoczułych oraz do wytwarzania masek.
Łatwo wymienne obiektywy zapewniają zróżnicowane rozdzielczości i pola zapisu
CECHY
- Źródło LED 405 nm
- Możliwość montażu dodatkowego źródła 365 nm dla wymagających zastosowań
- Wymienne Obiektywy: 5x, 10x, 20x
- Ultraszybki autofocus
- Najwyższa osiągnięta rozdzielczość: 800 nm
- Do 4095 poziomów w skali szarości lub tryb czysto binarny
- Rastrowy lub rastrowy tryb pracy
- Wybór trybu pracy za pomocą oprogramowania
- Wielkość podłoży do 4” x 4” lub 6” x 6” (system Beam XL)
ZASTOSOWANIA
- Półprzewodniki
- Fotonika
- Wytwarzanie masek
- Litografia 3D
- Optyka dyfrakcyjna
- Mikrofluidyka
- Zabezpieczenia / hologramy
- Inne