atomic layer deposition

Reaktor ALD R-200 Advanced

Reaktor ALD / PEALD

Zaawansowany modułowy reaktor ALD z możliwością prowadzenia procesów wspomaganych plazmą

    Ta strona jest chroniona przez reCAPTCHA oraz Google Polityka Prywatności | Warunki użytkowania.

    Reaktor ALD PICOSUN® R-200 advanced to zaawansowany system umożliwiający prowadzenie procesów termicznych oraz procesów wspomaganych plazmą (PE-ALD)

    Urządzenie jest przeznaczone do badań i rozwoju w wielu obszarach, takich jak komponenty układów scalonych, urządzenia MEMS, wyświetlacze, diody LED, lasery i obiekty 3D, warstwy optyczne,  ale również do powlekania biżuterii, monet czy implantów medycznych.

    GŁÓWNE CECHY:

    • Unikalne rozwiązania zapewniające najwyższą czystość procesu i jednorodność warstw
    • Niezależne wloty prekursorów do komory
    • Uniwersalna komora do wszystkich rodzajów podłoży
    • Jednorodna temperatura w całej objętości komory reakcyjnej
    • Odległe źródło plazmy typu ICP lub mikrofalowej
    • Prosta obsługa za pomocą komputera z ekranem dotykowym

    TYPOWE PODŁOŻA:
    (Powlekanie wszystkich typów podłoży w jednej uniwersalnej komorze reakcyjnej)

    • Pojedyncze płaskie podłoża o średnicy do 200 mm
    • Ogniwa krzemowe 156 mm x 156 mm
    • Elementy 3D o wysokości powyżej 120 mm
    • Proszki i cząstki
    • Mini serie podłoży 8 x 200 mm
    • Podłoża porowate, na wskroś porowate i podłoża o wysokim współczynniku HAR  (do 1:2500)

    TEMPERATURA PROCESU

    50 – 500°C, 450°C ze źródłem plazmy (650°C z dodatkowym uchwytem grzewczym), 

    TYPOWE PROCESY

    • Tlenki: Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2 
    • Warstwy domieszkowane: AZO, Er:Al2O3
    • Azotki: TiN, AlN
    • Metale: Pt, Ir, Ru

    ZAŁADUNEK PODŁOŻY

    • Winda pneumatyczna (ładowanie ręczne)
    • Komora załadowcza – load lock
    • Półautomatyczny załadunek podłoży za pomocą robota
    • Załadunek kaseta – do – kasety z klastrową platformą załadunkową

    PREKURSORY

    • 12 linii prekursorowych (ciekłe, gazowe, stałe, ozon)
    • 7 niezależnych wlotów do komory

    OPCJE ROZBUDOWY

    • Wzmacniacz dyfuzji Picoflow™ do powlekania materiałów o wysokim współczynniku HAR, materiałów porowatych i na wskroś porowatych bez ograniczeń co do wielkości, rodzaju podłoża i temperatury procesu
    • Integracja z komorą rękawicową glove-box do załadunku podłoży w atmosferze gazu obojętnego
    • Analizator gazów resztkowych
    • Generator ozonu
    • Generator azotu
    • Zintegrowany elipsometr laserowy
    • Mikrowaga kwarcowa