Przemysłowy reaktor ALD do podłoży o średnicy 300 mm i serii podłoży 3D
Przemysłowy reaktor ALD do produkcji LED
Przemysłowy reaktor ALD do podłoży o średnicy 300 mm do produkcji półprzewodnikowej
Przemysłowy reaktor ALD do dużych podłoży 3D
Zaawansowany system do wysokoprzepustowej produkcji półprzewodnikowej
Przemysłowe reaktory ALD