Spin coater SPIN 150x

NOWOŚĆ

Spin coater model SPIN150x jest przeznaczony do procesów czyszczenia, suszenia, powlekania, wywoływania i/lub trawienia podłoży o średnicy do 160 mm.

UNIKATOWA KONSTRUKCJA:

• Możliwość instalacji jako systemu nablatowego, lub instalowanego w blacie (in-deck), dzięki zdejmowanej obudowie
• Seria Spin X jest wyposażona w pułapkę cieczy, chroniącą krytyczne komponenty powlekacza takie jak silnik, czujnik próżni, zawór próżniowy. Przechwycone płyny są odprowadzane do pojemnika, którego zapełnienie można obserwować przez wycięcie w obudowie.
• Możliwość regulacji i ustawienia pozycji bazowej silnika do ustawienia konkretnej pozycji podłoża po zakończeniu procesu
• Duży, odłączany wyświetlacz dotykowy

Konstrukcja spin coatera zapewnia z jednej strony łatwość utrzymania czystości procesu, a z drugiej gwarantuje bardzo długą żywotność urządzenia pomimo kontaktu z agresywną chemią dzięki wyeliminowaniu jakichkolwiek metalowych elementów podatnych na korozję.
Oferowany spin coater wykonany jest w całości z tworzywa sztucznego – z polipropylenu lub teflonu.

• Nablatowy model (z jednoczesną możliwością montażu w blacie) do ręcznego lub opcjonalnie zautomatyzowanego dozowania odczynników
• System wykonany w całości z naturalnego polipropylenu (NPP) (opcjonalnie z PTFE)
• Przezroczysta pokrywa z uchwytem strzykawki do centralnego dozowania
• Elektromagnetyczna blokada pokrywy
• Złącze odłączanego kontrolera do łatwej integracji z glovebox
• Dyfuzor N₂ do płukania azotem w trakcie prowadzonego procesu
• Łatwe programowanie receptur krok po kroku za pomocą dużego, kolorowego ekranu dotykowego
• 3 programowalne styki bezpotencjałowe: np. do zautomatyzowanej kontroli jednostki dozującej, dyfuzora azotu itd.
• Cyfrowe sterowanie silnika oparte na sprzężeniu zwrotnym sygnału przyrostu prędkości
• Nieograniczona pamięć programów dla receptur obejmujących wiele kroków

Możliwość ustawienia następujących parametrów procesu

Uchwyty dla różnych typów podłoży:

• Fragmenty podłoży
• Niski kontakt
• Podłoża kwadratowe Maski, ogniwa słoneczne, itp. – Chipy, płytki, fragmenty itd.
• Podłoża zwykłe – Szkiełka laboratoryjne etc,
• Podłoża okrągłe – Uchwyty próżniowe dla podłoży od 2“ do 300 mm
• Podłoża okrągłe – Uchwyty próżniowe z pinami centrującymi
• Podłoża okrągłe – Uchwyty mechaniczne z pinami centrującymi

Zestaw wkładek ochronnych do
misy i wieka powlekacza

Uchwyt na strzykawki z centralnym układem dozującym, do strzykawek pojedynczych lub potrójnych ze zintegrowanym dyfuzorem N₂

Zestaw startowy strzykawek składający się z pięciu cylindrów do
dozowania chemikaliów o objętości 30 cm³, igieł i pistonów

System dozowania PERFORMUS X
Do instalacji w uchwycie strzykawkowym i sterowany przez trzy złącza bezstykowe

Narzędzie do centrowania podłoży.
Jedno narzędzie przeznaczone do centrowania podłoży o rozmiarach
od 2″ do 6″ oraz kwadratowych podłoży do 4×4″

Karbowany wąż spustowy ze złączem

Pompa próżniowa