Fotorezysty
Fotorezysty do wytwarzania obwodów zintegrowanych, masek, metamateriałów, hologramów.
Oferujemy szeroką gamę fotorezystów do stosowania z technikami litografii elektronowej, laserowej, mask-aligner, do wytwarzania obwodów zintegrowanych, masek, metariałów, hologramów.
FOTOREZYSTY E-BEAM POZYTYWOWE I NEGATYWOWE:
- Wysokorozdzielcze do procesów mix and match i stabilne do temperatur >120˚C
- Fotorezysty wysokiego kontrastu do wytwarzania obwodów zintegrowanych i masek
- Fotorezysty oparte na PMMA do wytwarzania obwodów zintegrowanych i masek
- Fotorezysty wysokiego kontrastu do wytwarzania obwodów zintegrowanych i struktur holograficznych
- Wysokoczułe fotorezysty
- Fotorezysty odporne na trawienie
FOTOREZYSTY OPTYCZNE POZYTYWOWE I NEGATYWOWE
- Fotorezysty zgodne z i-, g-line, e-beam, X-ray, synchrotron, szerokie spektrum UV
- Wysoka czułość, łatwe w usuwaniu
- Stabilne w procesach powlekania elektrochemicznego
- Do wytwarzania skomplikowanych struktur z trawieniem w HF
- Do wytwarzania zintegrowanych obwodów
- Możliwość stosowania do 300˚C
- Fotorezysty typu „image reversal”
ODCZYNNIKI:
- Wywoływacze
- Utrwalacze
- Promotory adhezji
- Odczynniki cieniujące
- Odczynniki do usuwania fotorezystów