POLOS PM-100 Start

POLOS® PM-100 Start to wszechstronny a jednocześnie kompaktowy system do bezmaskowej litografii laserowej zapewniający najwyższy stopień swobody w tworzeniu mikrostruktur w warstwach światłoczułych

Wymienny moduł optyczny o długości fali 405 nm, umożliwia osiągnięcie rozdzielczości 800 nm w warstwie światłoczułej, z możliwością wymiany na moduł z wiązką 375 nm.

System obsługuje do 4095 poziomów skali szarości lub czystego trybu binarnego i pozwala na tworzenie struktur optycznych 3D, struktur powierzchniowych, a także projektów masek. Sterowany laserowo autofokus w czasie rzeczywistym i kontrola intensywności lasera zapewniają wysoką jakość obrazowania podczas całego procesu naświetlania.

CECHY

• Najwyższa rozdzielczość na rynku z zastosowaniem długo-żywotnego lasera diodowego 405 nm
• Najwyższa osiągnięta rozdzielczość: 800 nm
• Do 4095 poziomów w skali szarości lub tryb czysto binarny
• Możliwość montażu źródła 375 nm dla wymagających zastosowań
• Wielkość podłoży do 4” x 4”

Wymiary

• Szerokość: 580 mm
• Wysokość: 708 mm
• Głębokość:  600 mm (bez opcjonalnego kanału powietrznego)
• Waga: 260 kg
• Sprężone powietrze: 5-7 Bar,
• Jakość powietrza wg ISO8573-1:2010 klasa 3 lub lepsza.

ZASTOSOWANIA

• Półprzewodniki
• Fotonika
• Wytwarzanie masek
• Litografia 3D
• Optyka dyfrakcyjna
• Mikrofluidyka
• Zabezpieczenia / hologramy
• Inne