Polecany
POLOS PM-100
Bezmaskowa litografia laserowa UV
Kompaktowy system do litografii laserowej dla podłoży do 4`` z możliwością tworzenia wzorów o szerokości od 300 nm
POLOS® PM-100 to wszechstronny a jednocześnie kompaktowy system do bezmaskowej litografii laserowej zapewniający najwyższy stopień swobody w tworzeniu mikrostruktur w warstwach światłoczułych
Wymienny moduł optyczny o długości fali 405 nm, umożliwia osiągnięcie rozdzielczości 300 nm w warstwie światłoczułej, z możliwością wymiany na moduł z wiązką 375 nm.
System obsługuje do 4095 poziomów skali szarości lub czystego trybu binarnego i pozwala na tworzenie struktur optycznych 3D, struktur powierzchniowych, a także projektów masek. Sterowany laserowo autofokus w czasie rzeczywistym i kontrola intensywności lasera zapewniają wysoką jakość obrazowania podczas całego procesu naświetlania.
CECHY
- Najwyższa rozdzielczość na rynku z zastosowaniem długo-żywotnego lasera diodowego 405 nm
- Najwyższa osiągnięta rozdzielczość: 300 nm
- Do 4095 poziomów w skali szarości lub tryb czysto binarny
- Możliwość montażu źródła 375 nm dla wymagających zastosowań
- Wielkość podłoży od 5 mm x 5 mm do 4” x 4”
Wymiary
- Szerokość: 600 mm
- Wysokość: 750 mm
- Głębokość: 600 mm (bez opcjonalnego kanału powietrznego)
- Waga: 260 kg
- Sprężone powietrze: 57 Bar,
- Jakość powietrza wg ISO8573-1:2010 klasa 3 lub lepsza.
ZASTOSOWANIA
- Półprzewodniki
- Fotonika
- Wytwarzanie masek
- Litografia 3D
- Optyka dyfrakcyjna
- Mikrofluidyka
- Zabezpieczenia / hologramy
- Inne