P-300B

Průmyslový ALD reaktor

Průmyslový ALD reaktor pro substráty o průměru 300 mm a šarže substrátů 3D.

    Tato stránka je chráněna službou reCAPTCHA Politika ochrany soukromí | Platí podmínky Google.

    Systém PICOSUN® P-300B ALD je speciálně navržen pro výrobu zařízení MEMS, tiskových hlav, senzorů a pro depozice na různé substráty 3D, jako jsou součásti strojů, skla, mince, šperky, hodinky, optické komponenty a lékařské přístroje a implantáty.

    HLAVNÍ VLASTNOSTI:

    • Unikátní řešení zajišťující nejvyšší čistotu procesu a uniformitu vrstev
    • Nezávislé přívody prekurzorů do komory
    • Univerzální komora pro všechny typy substrátů
    • Rovnoměrná teplota v celém objemu reakční komory
    • Jednoduché ovládání pomocí počítače s dotykovou obrazovkou

    TYPICKÉ PODKLADY:

    (Depozice na všech typech substrátů v jedné univerzální reakční komoře)

    • Podklady 300 mm
    • Podklady 200 mm v šaržích 25 kusů
    • Podklady 150 mm v šaržích 50 kusů
    • Podklady 100 mm v šaržích 75 kusů
    • Všechny druhy podkladů 3D – mechanické součásti, mince, součásti hodinek a šperků, čočky, chirurgické implantáty (řešení PicoMEDICAL™)
    • Porézní, skrz-porézní substráty a substráty s vysokým HAR (až 1:2500)

    TEPLOTA PROCESŮ

    50 – 500 °C

    TYPICKÉ PROCESY

    • Výrobní průmyslové procesy
    • Ne-uniformita vrstev mezi podklady v šarži 1% 1σ (Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49 bodu, 5mm EE)
    • Oxidy: Al2O3, TiO2, SiO2, Ta205, HfO2, ZnO, Zr02,
    • Nitridy: TiN, AlN
    • Kovy: Pt, Ir, Ru

    VKLÁDANÍ SUBSTRÁTU

    • Manuální vkládaní substrátů shora (pneumatické otevíraní poklopu reaktoru)
    • Poloautomatické lineární vkládaní substrátů
    • Vkládaní pomocí průmyslového robota

    PREKURZORY

    • Do 8 zdrojů prekurzorů (tekuté, plynné, pevné, ozon)
    • 4 až 6 nezávislých přívodů do komory