Osadzanie warstw atomowych (ALD) na proszki
Kolejne doniesienie opisujące zastosowanie technologii osadzania warstw atomowych w powlekaniu materiałów proszkowych. Tym razem na komercyjnie dostępne cząstki TiO2 nałożono cienką warstwę Fe2O3 uzyskując wzmocniony efekt fotokatalityczny.
Warstwę nałożono w reaktorze ALD R-150, poprzedniku obecnie oferowanego reaktora ALD R200, wyposażonego w montowany bardzo prosty sposób w komorze reakcyjnej specjalny kartridż.
Cao, Y., Zi, T., Zhao, X. et al. Enhanced visible light photocatalytic activity of Fe2O3 modified TiO2 prepared by atomic layer deposition. Sci Rep 10, 13437 (2020). https://doi.org/10.1038/s41598-020-70352-z
Metoda polega na wymuszonym przepływie gazów reaktywnych przez całą objętość materiału z jednoczesnym zastosowaniem wibracji złoża. Już wcześniej udowodniono, że ten sposób można powlekać nawet nanocząstki o wielkości 100-150 nm idealnie konforemnymi, wolnymi od pinholi warstwami.
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/jrs.4760
Ponadto w tym rozwiązaniu tym nie ma konieczności stosowania strumienia gazu jak w złożu fluidalnym, w którym dochodzi do znaczącego rozcieńczania podawanych kosztownych prekursorów i utrudniania dostępu gazów reaktywnych do powierzchni cząstek.
Brak konieczności wzbijania cząstek w strumieniu gazu eliminuje również ryzyko ich uszkodzenia wynikającego ze wzajemnych zderzeń, co jest niezwykle istotne przy modyfikacji substancji aktywnych, czy np. kropek kwantowych.
Potwierdzeniem użyteczności metody wymuszonego przepływu w reaktorach Picosun jest również jej zastosowanie w przemyśle.
Firma Nanexa, opracowała metodę nakładania na substancje aktywne cienkich warstw, które służą do m.in. do kontrolowanego uwalniania leku.
Źródło: Nanexa