Nabízíme revoluční metodu depozice tenkých, nanometrických a 100% konformních ochranných vrstev pro výrobce desek plošných spojů a výrobců elektroniky, vyvinutou předním výrobcem technologie ALD, Picosun.
Klíčové vlastnosti
- Hermetické, husté vrstvy získané metodou depozice atomárních vrstev ALD
(Atomic Layer Deposition), účinně chránící před oxidací, vlhkostí a tvorbou cínových vousů (tin whiskers) - Povlak ALD dodává nulovou hmotnost
- 100% konformita – přesná ochrana i velmi složitých 3D podkladů
- Depozice vrstev za nízkých teplot, bez rizika poškození elektronických obvodů
- Bez vlivu na následné instalace desek do finálních produktů
- Možnost depozice vrstev v průmyslových procesech na mnoho podkladů současně
- Povlaky ALD lze také použít jako pájecí masku (místo např. Parylen).
Picosun_press_release_14022019
