P-300BV
Průmyslový ALD reaktor
Průmyslový ALD reaktor pro výrobu LED, MEMS, senzorů
Systém PICOSUN® P-300BV ALD je speciálně navržen pro výrobu LED, MEMS a senzorů
HLAVNÍ VLASTNOSTI:
- Unikátní řešení zajišťující nejvyšší čistotu procesu a uniformitu vrstev
- Nezávislé přívody prekurzorů do komory
- Univerzální komora pro všechny typy substrátů
- Rovnoměrná teplota v celém objemu reakční komory
- Jednoduché ovládání pomocí počítače s dotykovou obrazovkou
TYPICKÉ PODKLADY:
(Depozice na všech typech substrátů v jedné univerzální reakční komoře)
- Podklady 200 mm v šaržích 25 kusů
- Podklady 150 mm v šaržích 50 kusů
- Podklady 100 mm v šaržích 75 kusů
- Podklady 3D – speciálně připravené drážky
- Porézní, skrz-porézní substráty a substráty s vysokým HAR (až 1:2500)
TEPLOTA PROCESU
50 – 450 °C
TYPICKÉ PROCESY
- Výrobní průmyslové procesy
- Ne-uniformita vrstev mezi podklady v šarži 1% 1σ (Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49 bodu, 5mm EE)
- Oxidy: Al2O3, TiO2, SiO2, Ta205, HfO2, ZnO, ZrO2
- Nitridy: TiN, AlN
- Kovy: Pt, Ir, Ru
VKLÁDANÍ SUBSTRÁTU
- Poloautomatické lineární vkládaní substrátů
- Moznost kontrolovaného výhřevu substrátů v přechodové komoře
PREKURZORY
- Do 8 zdrojů prekurzorů (tekuté, plynné, pevné, ozon)
- 4 nezávislé přívody do komory
- Senzory objemu prekurzorů