Nabídka společnosti zahrnuje řadu systémů a technologií pro depozice tenkých vrstev:
• ALD – Depozice atomárních vrstev
• PVD – Fyzikální depozice z plynné fáze (magnetronové systémy, termální naprašování,
e-beam)
• CVD / PE-CVD (CVD, PA-CVD, MW-CVD, MOCVD) Chemická depozice z plynné fáze
• Zařízení pro úpravu povrchů atmosférickou plazmou
Společnost také nabízí na základě požadavků koncového uživatele podporu při vývoji technologií pro depozice vrstev oxidů, kovů, nitridů, diamantových vrstev (DLC) a dalších.

Nabídka zahrnuje také moderní litografické systémy, zařízení pro zpracování polovodičových materiálů a systémy pro charakterizaci materiálů, jako jsou vysoce kvalitní rentgenové difraktometry, počítačové mikrotomografy a elipsometry.