Elektronová litografie nb5

Systém elektronové litografie nB5 je zařízení generující vzory metodou vektorového skenování pomocí kulatého paprsku. Díky inovativní a moderní optice elektronových paprsků je systém nB5 v kombinaci s automatizací ideálním řešením jak pro výzkum, tak pro výrobu. Systémy elektronové litografie (EBL) od společnosti Nanobeam nabízejí vysoké rozlišení, lze je použít v nejrůznějších procesech a materiálech a vyznačují se vysokou propustností, nízkými provozními náklady a výjimečnou spolehlivostí.

KONSTRUKCE ZAŘÍZENÍ – TECHNOLOGIE NOVÉ GENERACE

• Zjednodušená automatizace a robotika
• Nejrychlejší systém elektronové litografie na trhu – tvorba 2 milionů bodů za 110 sekund na povrchu 4 mm²
• Výjimečná rychlost – <100 ms při pohybu stolu 500 μm
• Vytváření vzorů na celém povrchu podkladu o průměru 200 mm
• Pokročilý systém redukce a kontroly mechanických vibrací (systém je v provozu v 6. patře Columbia University)
• Interferometrický systém pro kontrolu polohy a vibrací stolku
• Přesný systém měření výšky podkladu
• Automatický podavač pro 6 substrátů

POKROČILÁ ELEKTRONIKA

• 20bitový převodník DAC
• Rychlost zápisu 55 MHz pomocí nízkošumové technologie Nanobeam
• Blanking <5 ns
• Elektronický šum <2 str./min
• Kontrola dávky paprsku – rozlišení 0,5 Hz, průběžné řízení během procesu

NÍZKÉ POŘIZOVACÍ A PROVOZNÍ NÁKLADY

• Nízké pořizovací náklady
• Nízké náklady na výměnu elektronového děla
• Nízké instalační požadavky – třída čistoty V
• Vysoká odolnost vůči rozptylovému poli – < 600 nT
• Vysoká odolnost vůči teplotním výkyvům – <0,3 °C
• Spotřeba energie <3 kW
• Odolnost proti poruchám periferních systémů (stlačený vzduch, elektrika)
• Spolehlivost – více než 98% provozuschopnost při používání zařízení 24 hodin denně, 7 dní v týdnu
• ZÁRUKA – 5 LET