elipsometr

Elipsometr FS-8 (Gen. 4)

Elipsometr

Vícepásmový elipsometr

    Tato stránka je chráněna službou reCAPTCHA Politika ochrany soukromí | Platí podmínky Google.

    • 8 vlnových délek, spektrální rozsah 370 nm, 525 nm, 595 nm, 660 nm, 735 nm, 850 nm, 950 nm
    • Kompaktní optika: zdroj 137 x 80 x 60 mm, detektor 110 x 80 x 60 mm
    • Dvě delší vlnové délky (850 a 950 nm) umožňují měření silnějších transparentních vrstev a absorbujících polovodičových vrstev (např. Poly-Si, SiGe, amorfní Si atd.)
    • Vylepšené měření odporu vrstvy (pomocí modelu Drudeho)
    • 6 vlnových délek a širší spektrální rozsah umožňují lepší měření vícevrstvých povlaků

     Konfigurace pro měření ex-situ

    • Úhel dopadu: 65°
    • Manuální umístění vzorku a nastavení výšky
    • Vzorky do průměru 200 mm a tloušťky 20 mm
    • Možnost naklonění vzorku v rozsahu ±2°
    • Velikost svazku na vzorku: 4 x 9 mm (volitelně 0,8 x 1,9 mm nebo 0,3 x 0,7 mm)
    • Kompaktní rozměry: 180 x 400 mm, 4,8 kg

    elipsometr

    Software Film Sense registruje a provádí analýzu elipsometrických dat a následně poskytuje parametry vrstvy ­ tloušťku, index lomu atd. Software Film Sense je integrován do zařízení a je ovládán prostřednictvím rozhraní ve standardním webovém prohlížeči. Každý stolní počítač, notebook nebo tablet s nainstalovaným moderním webovým prohlížečem (Windows, Mac OS X, Linux, iOS, Android) může provozovat elipsometr Film Sense pomocí ethernetového připojení (není vyžadován přístup k internetu ani k síti). Hlavní výhodou rozhraní webového prohlížeče je, že není nutná žádná instalace softwaru, což výrazně zjednodušuje konfiguraci a provoz elipsometrů Film Sense.

    Softwarové funkce

    • Režimy analýzy dat: standardní, vícevrstvé in situ, vícevzorkové, trajektorie a blízký povrch.
    • Až 10 modelových vrstev s volitelnou drsností povrchu a korekcí zadní strany substrátu.
    • Rozsah parametrů a počáteční přírůstky pro zlepšení konvergence přizpůsobení parametrů.
    • Bruggmanova efektivní střední aproximace pro smíšené materiály a pro vrstvy graded-index (GRIN).
    • Disperzní modely Cauchyho, Sellmeierův, Lorentzův, Drudeho, Tauc-Lorentzův a Multi-Osc.
    • Databáze optických konstant závislých na teplotě nebo složení.
    • Data depolarizace nebo intenzity transmise lze kombinovat s analýzou dat z vícepásmových měření.
    • Simulace jednotlivého měření nebo dynamických dat a vykreslování Fit Diff hodnota parametru.

     

     

    Možnosti elipsometru in situ

    • Integrace se systémy pro depozice tenkých vrstev a leptání.
    • Moznost využití s většinou technik depozice tenkých vrstev a leptání: naprašování, ALD, ALE, MBE, CVD, PLD atd.
    • Stanovení konstant n & k, rychlosti depozice za různých podmínek procesu bez porušení vakua.
    • Přesnost měření v rozsahu subnanometrů.
    • Monitorování a kontrola depozice vícevrstvých povlaků.
    • Rozhraní FS-API pro ovládání pomocí externího softwaru (kompatibilní s LabVIEW).

    Elipsometr in situ – vlastnosti:

    • Zdroj světla LED a detektor bez pohyblivých částí – spolehlivý provoz a rychlé měření.
    • Kompaktní a lehký zdroj a jednotka detektoru (každý cca 1 kg).
    • Volitelné adaptéry pro montáž na standardní příruby CF 2,75″nebo 1,33″, se snadno nastavitelným stupněm hrubého a jemného náklonu.
    • Pokročilé softwarové funkce pro vizualizaci a analýzu dynamických elipsometrických dat.